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总览

本章节范围:芯片级集成与片内互联技术 — 先进封装(2.5D / 3D / SoIC 等)、Chiplet D2D 互连标准(UCIe / BoW / AIB / 国产 ACC / CCITA)、3D 堆叠方案(HBM / 异构堆叠 / 国产对标)。 目标读者:在 AI 加速芯片选型、Chiplet 架构评估、片内互联协议决策中需要理解封装与 D2D 约束的工程师。

范围与边界 (Scope)

  • 包含
    • 先进封装技术路线(2.5D interposer / 3D stacking / TSV / micro-bump / hybrid bonding 等)
    • Chiplet die-to-die 互连标准的物理层 / 协议层规格与对比
    • HBM 与逻辑 die 之间的堆叠方案与代际演进
    • 国产先进封装与 D2D 标准(ACC / CCITA T/CESA 1248 / GB/T 46280)
  • 不包含

分工原则:本章讲"芯片级集成与封装内互联"(die-to-die,封装内),interconnect 讲"芯片间通信协议"(chip-to-chip 及更上层)。两者衔接点在物理边界——封装出口之后由 interconnect 接管。

与 docs/interconnect 的关系

维度本章 (knowledge/02)docs/interconnect/01-硬件互联
关注层面物理集成 / 封装内 die-to-die协议层 / 封装出口之后 chip-to-chip
典型技术UCIe 物理层、HBM 堆叠、TSV、CoWoS、FoverosNVLink 链路层、PCIe 协议、RoCE、UALink scale-up
衔接位置一片封装内部跨封装、跨节点
重叠点UCIe / 灵衢的物理层在两章都需提及,本章讲集成视角,互联章讲协议视角

@tbl-pkg-overview-vs-interconnect 本章与 interconnect/01-硬件互联 的分工

名词定义

本章节所有子文档默认这些名词已定义。子文档只解释本文新引入的名词,不再重复。

名词定义
Chiplet(小芯片 / 芯粒)把传统单 die SoC 拆成多个功能 die,通过先进封装在一颗物理芯片内集成
D2D(Die-to-Die)同一封装内多 die 之间的互连,带宽 TB/s 级,延迟 ns 级
Interposer多 die 之间的硅基或有机基板转接层,承载布线 / 凸点
TSV(Through-Silicon Via)硅通孔,3D 堆叠中垂直贯穿 die 的金属通路
Micro-bump微凸点,die 与基板/interposer 间的连接焊球,节距 < 50 µm
Hybrid Bonding混合键合,无凸点直接铜-铜与介质-介质同时键合,节距 < 10 µm
2.5D 封装多 die 平铺在 interposer 之上(如 CoWoS-S)
3D 封装多 die 垂直堆叠,TSV 或 hybrid bonding 连接(如 Foveros / SoIC)
HBM(High Bandwidth Memory)多层 DRAM 堆叠 + TSV,与逻辑 die 在同封装内通过 interposer 互连
CoWoSTSMC 2.5D 平台(Chip on Wafer on Substrate),NVIDIA H100 / B200 采用
EMIBIntel 嵌入式多 die 互联桥(Embedded Multi-die Interconnect Bridge),无 interposer 替代方案
Foveros / SoICIntel / TSMC 的 3D 堆叠技术,逻辑 die 直接叠在另一逻辑 die 之上
UCIeUniversal Chiplet Interconnect Express,Intel/AMD/TSMC 等主导的开放 D2D 标准
BoWBunch of Wires,OCP/ODSA 推动的另一开放 D2D 标准
AIBAdvanced Interface Bus,Intel 开源的 D2D 标准,CHIPS Alliance 维护
ACC中国清华交叉院 1.0 标准,2023 发布的国产 D2D 标准
CCITA / GB/T 46280中国电子工业标准化协会 / 国标,对应的国产芯粒互联接口规范

@tbl-pkg-overview-glossary 本章共享名词表

章节地图

文档主题状态
2.2 Chiplet D2D 标准Chiplet D2D 互连标准对比(UCIe / BoW / AIB / ACC / CCITA)✓ 已完成
03-先进封装路线图.md2.5D / 3D / hybrid bonding 路线、CoWoS / EMIB / Foveros / SoIC 对标⏳ 占位待补
04-3d堆叠方案对标.md全球 3D 堆叠方案:HBM 代际、TSMC / Intel / Samsung / 国产堆叠路线⏳ 占位待补

@tbl-pkg-overview-chapters 章节地图

占位文档说明:03 和 04 由 2026-05-26 韬定律脑暴 收敛为 C1(RICE 8.4)与 C3(RICE 8.4)候选,下次发起单独 iforge-research 调研后补齐。建好骨架便于未来增量挂接,本章节读者可先从 02 入手。

业界背景(轻量索引)

本节仅作为快速入门指针,详细技术对比留给各子文档。

维度关键趋势(2025-2026 量级)
先进封装产能TSMC CoWoS 仍是 NVIDIA / AMD AI 芯片核心制约;台积电 SoIC + CoWoS 联合方案推进
D2D 标准化UCIe 2.0 / 3.0 推进;国产 ACC 1.0 / CCITA T/CESA 1248-2023 / GB/T 46280 形成自主路线
HBM 代际HBM3 → HBM3E → HBM4 演进;带宽从 800 GB/s → 1.2 TB/s → 2 TB/s+
3D 堆叠Foveros Direct(Intel)、SoIC(TSMC)、X-Cube(Samsung)路线分化

@tbl-pkg-overview-trends 业界背景(2025-2026 量级)

阅读路径建议

角色建议路径
AI 芯片架构师02 → (03 待补) → (04 待补) → interconnect/01-硬件互联
Chiplet 标准选型02 (D2D 标准对比)
韬定律研究背景02 + 1.2 韬(τ)定律

@tbl-pkg-overview-path 阅读路径建议